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DWL66+

DWL66+激光光刻系統(tǒng)是一個經濟的，高分辨率模式發(fā)生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統(tǒng)的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統(tǒng)，生物微機電，微光學，專用集成電路，微流體，傳感器，計算機全息技術，還有其他的微型機構的應用。用DWL66+的客戶在世界范圍內包含了超過150個領先的大學和研究設備處。這個系統(tǒng)的很多功能一直在與這些機構進行密切的合作開發(fā)。

重要特征選項

最大基板尺寸9”x  9”

最小描繪尺寸0.6um

最小描繪網格10nm

先進的灰度曝光模式

實時的自動對焦系統(tǒng)

客戶特定激光源

矢量和柵格曝光模式

可交換的寫模式

攝像系統(tǒng)計量和校準

前后面對齊

人工氣候室

多種數據輸入格式

用戶編程接口

技術參數

寫入模式

1

2

3

4

5

6

地址網格（nm）

10

20

25

50

100

200

最小結構大?。╱m）

0.6

0.8

1

2

4

7

寫速度（mm^2/min）

6

25

39

145

500

1000

邊緣粗糙度（3σ，nm）

50

70

80

110

160

240

線寬均勻度（3σ，nm）

60

80

100

180

250

500

線條測量精度（3σ，nm）

100

120

150

250

400

800

?

總共找到3個商品
價格 銷量 人氣
MLA 100 無掩模光刻儀  
MLA 100 無掩模光刻儀
MLA100的應用領域包括生命科學，微機電系統(tǒng)，微光學，半導體，傳感器，執(zhí)行器，微光機電系統(tǒng)，材料研究，納米管，石墨烯，這任何一項應用都需要微光顯示結構。
DWL66+  
DWL66+
DWL66+激光光刻系統(tǒng)是一個經濟的，高分辨率模式發(fā)生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統(tǒng)的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統(tǒng)，生物微機電，微光學，專用集成電路，微流體，傳感器，計算機全息技術，還有其他的微型機構的應用。用DWL66+的客戶在世界范圍內包含了超過150個領先的大學和研究設備處。這個系統(tǒng)的很多功能一直在與這些機構進行密切的合作開發(fā)。
uPG 101  
uPG 101
uPG 101 是很經濟，容易去用微型發(fā)生器進行直寫應用和低容量掩模制作的一個系統(tǒng)。這個系統(tǒng)可運用的應用有，微電子機械系統(tǒng)、生物微系統(tǒng)、集成光學、微流道或者其他需要高分辨率的微型系統(tǒng)。他的面積很小只有60*1875px^2，獨特的緊湊結構，使得所有的電子分量都可以完整的包含在這個系統(tǒng)中。個人電腦可以用來控制這個系統(tǒng)，這個基于操作軟件的圖形用戶界面使用戶更容易去進行設計，生成目錄，自動對準和生成曝光。