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高分辨率3D打印系統(tǒng)
 
 
 
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高分辨率3D打印系統(tǒng)

主要特征 1.具有 100 nm 特征尺寸控制的高速高分辨率 3D 微納加工 2.廣泛的基板和晶圓，最大可達(dá) 8 英寸 3.工業(yè)批量處理：200 種典型的中尺度結(jié)構(gòu)可在一夜之間打印 4.通過(guò)花崗巖基層和減振實(shí)現(xiàn)高機(jī)械和熱穩(wěn)定性 5.個(gè)性化定制系統(tǒng)，適用于廣泛應(yīng)用，是多用戶(hù)設(shè)施的理想選擇

  • 貨　　號(hào)：G67C011E54907A
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3D微納加工設(shè)備

Quantum X shape是一款真正意義上的全能機(jī)型?；陔p光子聚合原理 （2PP） 的可定制 3D 激光光刻系統(tǒng)提供獨(dú)有的 3D 打印技術(shù)，使其成為 2.5D 和 3D 形狀的快速原型制作和晶圓級(jí)批量處理的優(yōu)秀工具，并同時(shí)具備亞微米級(jí)的精度和準(zhǔn)確度。


 技術(shù)特點(diǎn)概要

· 快速原型制作，高精度，高設(shè)計(jì)自由度，簡(jiǎn)易明了的工程流程

· 工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn)

· 200 個(gè)典型中尺度結(jié)構(gòu)的過(guò)夜打印量

· 使用全新XLF打印套件，一次實(shí)現(xiàn)打印30立方厘米部件

· 廣泛的特定應(yīng)用和通用打印材料

· 模塊化、可定制的系統(tǒng)

 

打印流程及尺寸范圍

· 基于雙光子聚合的高分辨率3D打印技術(shù)

· 應(yīng)用于快速精確表面結(jié)構(gòu)的雙光子灰度光刻技術(shù)

· 納米級(jí)打印 – SF 打印套件，可在 x/y 方向上控制特征尺寸，最小可達(dá) 100 納米

· 微尺度打印 – MF 打印套件，用于打印 50 至 700 微米的典型尺寸

· 中尺度打印 – LF 打印套件，尺寸可達(dá)幾毫米

· 宏觀打印 – XLF Print Set 可加快最大 50 x 50 x 12 mm3 的厘米級(jí)物體的批量生產(chǎn)


標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)

表面粗糙度 (Ra)

 ≤ 5 nm 

最小特征尺寸1

 100 nm

形狀準(zhǔn)確度

 ≤ 200 nm

批量生產(chǎn)

200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量

Single print field diameter

up to ≥ 4,000 μm

最大掃描速度

6.25 m/s/透鏡放大倍數(shù)2

 

系統(tǒng)基本特征

打印技術(shù)

基于雙光子聚合的逐層3D打印
具有體素調(diào)節(jié)能力的雙光子灰度光刻

基片

顯微鏡載片(3” x 1” / 76 x 26 mm2)
硅片，1” (25.4 mm) 到 8” (200 mm)
玻璃、硅及其他不透明材料

光刻膠

Nanoscribe IP膠 （聚合物打?。?/font>
Nanoscribe GP-Silica膠（玻璃打?。?/font>
兼容第三方及各類(lèi)自主材料

最大打印面積

50 x 50 mm2

提供的數(shù)據(jù)可能因光刻膠及幾何形狀而有不同
1 各空間方向上100nm的特征尺寸可控
2 e.g. 10倍物鏡放大倍率：625nm/s

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