繁體中文
訂購熱線:021-3463-5258 021-3463-5259
訂購熱線:021-3463-5258 021-3463-5259
| Alpao自適應光學軟件和即時計算系統(tǒng) | Holoeye空間光調(diào)制器 | ALPAO高速變形鏡 | 波前分析儀Phasics | 自適應光學系統(tǒng) | 數(shù)字微反射鏡 DMD 數(shù)字微鏡器件 | 光學元件器件DOE | 光刻儀 |
| 3D打印系統(tǒng) | 飛秒激光器 | 皮秒激光器 | 自相關儀 | 超短脈沖測量儀Frog | 超快激光器件 |
| 高功率連續(xù)波OPO | 高功率光纖激光器 | Qioptiq NANO 激光器 | 低噪聲窄線寬激光器 | 可調(diào)諧激光器 | 半導體激光器和放大器 | SLD和ASE寬帶光源 | 雙波長輸出氦氖激光器 |
| QIOPTIQ光纖耦合半導體激光器 | Diode & DPSS_qioptiq | 激光驅(qū)動白光光源 | 等離子體寬帶光源 | 單色儀 | 光譜儀 | 光柵 | 輻射計 | 防嗮系數(shù)分析 | Optogma固體激光器 | Solarlight | 波長選擇器 |
| 激光準直儀 | 紅外激光觀察鏡 | 激光功率能量計 | 光學斬波器 | 光束質(zhì)量分析儀 | 位敏探測器 | 紅外相機 | O/E轉(zhuǎn)換模塊探測器 TIA-525S |
| 太赫茲相機及源 | 太赫茲探測器 | 太赫茲元器件及晶體 | 太赫茲光譜儀 | 太赫茲功率計 |
| Optiphase | 微光MOI |
| 普克爾盒/Pockels Cells | 電光調(diào)制器/Electro-Optics Modulators | 法拉第隔離器/Faraday Isolators | SESAM半導體可飽和吸收鏡 | 探測器 | EOT高速光電探測器 | 其他未分類 |
| 電化學ECV 擴散濃度 | 接觸電阻測量儀 | 四點探針測試儀 | 少子壽命測試儀 |
| 平行光管 |
| 光纖跳線及配件 | 無源器件 |
 |
反射式配置數(shù)字全息顯微鏡，無需掃描，非接觸式測量動、靜態(tài)物體三維樣貌及振動特性的測量方法。根據(jù)波長的不同將反射式DHM分為三種型號：
R1000-配備單一光源，是測量光滑表面和振動的標準測量工具
R2100-同時配置雙波長，實現(xiàn)復雜或不連續(xù)結(jié)構(gòu)的測量。
R2200-在R2100基礎上多了第三方光源來擴展測量能力，特別是測量透明模式。
反射式DHM的特性：
| 快速3D樣貌測量法 | MEMS分析，最高頻率可達25Mh |
| DHM測量表面三維樣貌，單一響應，無需掃描機制。無與倫比的快速采集，相機速度達1000fps允許： 可變形樣品的3D動態(tài)研究 常規(guī)檢查與高生產(chǎn)率 短余輝熒光屏及大型表面的分析 捕捉生產(chǎn)線的三維地貌 | 同步DHM 可選頻閃單元，測量MEMS裝置的激勵信號。這一獨特數(shù)據(jù)分析提供： 三維地貌的時序 共振頻率和響應 振動振幅平面外分辨率可達5pm,平面內(nèi)可達1nm 表征復雜運動和樣品 |
| 測量可控制環(huán)境條件 | 透明模式的地貌測量 |
| DHM獨特的光學配置允許用戶測量最佳光學質(zhì)量指標： 通過玻璃和浸沒液體 內(nèi)部環(huán)境和真空室，控制溫度，濕度，壓強，氣體成分。 | 可選DHM反射式測量法分析軟件允許以下測量： 透明結(jié)構(gòu)的地形 厚度和折射率，多層結(jié)構(gòu)的厚度值 從10nm到幾十微米 柔軟材料和液體的地形 |
?
反射式DHM主要參數(shù)：
| 系統(tǒng) | |||
| DHM型號 | R1000 | R2100 | R2200 |
| 光源數(shù)量 | 1 | 2 | 3 |
| 操作波長（±0.1nm） | 666nm | 794nm | 666 nm, 794 nm, 680 nm |
| 激光波長穩(wěn)定性 | 0.01 nm / °C at 666 | ||
| 樣品臺 | 手動或自動XYZ平臺，行程300 mm x 300 mm x 38 mm | ||
| 物鏡 | 放大倍數(shù)1.25x到100 x，標準，高數(shù)值孔徑，長工作距離，水/油浸物鏡 | ||
| 物鏡轉(zhuǎn)輪 | 六孔轉(zhuǎn)盤 | ||
| 計算機 | DELL工作站，最新多核Intel處理器，高性能圖像卡，配置最小21英寸顯示屏及鼠標， | ||
| 軟件 | 基于C++和.NET的Koala軟件，額外可選軟件模塊可用于先進分析 | ||
| 數(shù)據(jù)兼容性 | 測量數(shù)據(jù)記錄在二進制表格，可導出.txt格式，記錄和重建圖像可導出.tif格式或.txt數(shù)組 | ||
?
技術參數(shù)：
| 性能參數(shù) | |||
| 測量模式 | 666nm單波長 | 合成短波長4.2um | 合成長波長24um |
| DHM型號 | R1000，R2100，R2200 | R2100，R2200 | R2200 |
| 精度[nm] | 0.15 | 0.15 / 3.0 * | 20 |
| 垂直分辨率[nm] | 0.30 | 0.30 / 6.0 * | 40 |
| 重復性[nm] | 0.01 | 0.01 / 0.1 * | 0.5 |
| 垂直測量范圍 | up to 200 μm | up to 200 μm | up to 200 μm |
| 銳利邊緣最大臺階高度 | up to 333 nm | up to 2.1 μm | up to 12 μm |
| 表面類型 | 光滑表面 | 復雜，非連續(xù)表面 | 復雜非連續(xù)表面 |
| 垂直校準 | 取決于干涉濾光片，±0.1 nm | ||
| 響應時間 | 標準500us,10us(可選) | ||
| 響應速度 | 標準30幀（1024*1024像素），可選達1000幀 | ||
| 重建速率 | 高達25幀1024*1024像素全息圖（依賴于數(shù)據(jù)分析）（可選60幀） | ||
| 水平分辨率 | 取決于物鏡，低至300nm | ||
| 視野 | 取決于物鏡，從66um x66um到5um x5um范圍 | ||
| 工作距離 | 取決于物鏡，從0.3到18 mm | ||
| 數(shù)字對焦 | 取決于物鏡，高達50 x景深 | ||
| 最小樣品反射率 | 低于1% | ||
| 樣品照明 | 低至1 μW/cm2 | ||
| 頻閃裝置 | 兼容單一，合成短波長 | ||
?
?
| ?
| 電源要求 | |
| 輸入電壓 | 85-260 VAC – 50/60 Hz | |
| 電源要求 | 最大250W | |
| 尺寸重量 | ||
| 尺寸 | 600 x 600 x 800 mm | |
| 重量 | 48kg | |
